一般來說，在稀土拋光粉中，當(dāng)氧化鈰含量大于40%以后，其拋光效果就明顯增加，以后再增加氧化鈰含 量，其效果提高得不明顯，增加到80、85%左右，比40%氧化鈰含量的拋光粉提高15%左右。氧化鈰的拋光能力比紅粉高，其主要原因在于氧化鈰為心立 方晶體，紅粉為六方晶體，經(jīng)過合理工藝制得的氧化鈰，有強(qiáng)烈的活性，其次在于紅粉顆粒形狀基本為園球形，而氧化鈰的顆粒形狀為六面體，片狀，有棱角。可見 純度影響不是主要的。雖然它含有較大量的其它稀土雜質(zhì)，但對拋光不起壞的作用。其原因就在于有的稀土雜質(zhì)對拋光并無妨礙，如氧氧化鐠Pr6O11，，具有 面心立方結(jié)構(gòu)(螢石型)，與氧化飾結(jié)構(gòu)相同，也適于拋光，而瀾系氧化物，則幾乎沒有拋光能力。對于這些沒有拋光能力的稀土氧化物，可以在不改變CeOZ的 晶體結(jié)構(gòu)情形下，在一定范圍內(nèi)與氧化鈰組成固溶體，使結(jié)晶形變化在螢石型和六方晶系之間。從而對拋光不會起不利的影響。至于含50%氧化飾的低飾含硫氧化 物(氧化鈰混合稀土)拋光粉，則還會有大量的La2O3*S03，Nd2O3*S03等物質(zhì)與氧化鈰共存。

　　根據(jù)二氧化鈰與CeO2十R2O3的克分子比或重量比大小，如果大于70%，則全體是等軸晶系的螢石型結(jié)構(gòu)，而在70、10%之間，則是等軸 晶系和六方晶系的混合狀態(tài)，如果CeO2含量在10%以下，則全部是六方晶系。可見，只要CeO2含量大于20%以上，晶格結(jié)構(gòu)就比較好，大于70%，結(jié) 構(gòu)與純氧化飾是一樣的。這就是為什么拋光粉含氧化鈰80%左右，其拋光性能不亞于99.99%氧化鈰拋光粉的原故。雜質(zhì)在拋光粉中，有害的是機(jī)械雜質(zhì)和 拋光粉中個別過硬的粒子，它能造成機(jī)械損傷，從而在表面上產(chǎn)生劃痕。這些雜質(zhì)包括工藝設(shè)備中的金屬顆粒，或來自焙燒時過大的砂礫狀氧化物凝聚體，即使小于 0.001%也有害。

　　化學(xué)活性:化學(xué)活性是指拋光粉顆粒參與化學(xué)反應(yīng)的能力。拋光劑的活性主要決定于晶格結(jié)構(gòu)，晶粒形狀(包括比表面和粒徑)以及拋光粉粒子的破碎 率。改變中間體和沉淀方法是提高拋光劑活性的有用方法。如堿式碳酸鹽就比草酸鹽和碳酸正鹽制得的拋光粉效率高，晶粒形狀好。帶有晶格缺陷活性很高的紅粉， 拋光能力不見得比某些氧化鈰低，而含鈰量低的稀土拋光粉，其本身活性不算強(qiáng)，但也能用改變氧化鈰晶體結(jié)構(gòu)來提高其拋光能力。

　　除了這兩點(diǎn)外，粒度和晶形以及比重也是影響稀土拋光粉拋光效果的重要因素，這里我們就不一一講解，由以上兩點(diǎn)我們不難總結(jié)出含有氧化鈰的稀土拋光粉對光學(xué) 玻璃，手機(jī)觸摸屏，電視電腦屏，手表玻璃有非常好的拋光效果，它的好的點(diǎn)還能提高拋光效率，保護(hù)拋光后工件的質(zhì)量，對環(huán)境不污染等，是一種型的比較好拋光材料。把它泛用用于平面研磨機(jī)上使用是一種趨勢，也是未來發(fā)展的關(guān)鍵技術(shù)點(diǎn)。因?yàn)槊鎸Y源緊張，地方政策調(diào)控，如何在節(jié)約資源的情況下來利用它進(jìn)行拋光是將來技術(shù)的重點(diǎn)研究課題。目前學(xué)者考慮的是循環(huán)利用這種稀土拋光粉，但是在研磨后能否真正循環(huán)利用還沒有確切的結(jié)論。